等離子處理系統(tǒng)采用的是是干法清洗，主要清洗很微小的氧化物和污染物。等離子清洗機(jī)清洗原理與其他清洗機(jī)的原理不同，當(dāng)艙體里接近真空狀態(tài)時(shí)，開(kāi)啟射頻電源，這時(shí)氣體分子電離，產(chǎn)生等離子體，并且伴隨輝光放電現(xiàn)象，等離子體在電場(chǎng)下加速，從而在電場(chǎng)作用下高速運(yùn)動(dòng)，對(duì)物體表面發(fā)生物理碰撞，等離子的能量足以去除各種污染物，同時(shí)氧離子可以將有機(jī)污染物氧化為二氧化碳和水蒸氣排出艙體外。

等離子清洗不需要其他的原料，只要空氣、氧氣、氮?dú)獾葰怏w就能夠滿足要求，使用方便而且沒(méi)有污染，同時(shí)比其他清洗機(jī)器更具有的優(yōu)勢(shì)。等離子處理機(jī)不但可以進(jìn)行表面清洗，更重要的是可以提高表面活性，等離子體與物體表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)能夠產(chǎn)生活性化學(xué)集團(tuán)，應(yīng)用范圍很廣，比如提高材料表面粘接能力，提高焊接能力，邦定性，親水性等等很多方面。