硅晶片plasma電漿清洗去除表面光刻膠。具有高度的均勻性，穩(wěn)定的刻蝕速率。改變了硅晶片原始鈍化層的形貌和潤濕性，大大提高了附著力效果。

金鉑利萊plasma電漿清洗機越來越多地應用于在半導體集成電路制作所用的硅晶片中，能夠高容量自動化處理多個硅晶片。

硅晶片plasma電漿清洗除去硅晶片上的氧化物或金屬等污染物，在半導體集成電路制作中提高了集成電路的產(chǎn)量、可靠性和性能。

金鉑利萊有限公司是自主研發(fā)生產(chǎn)電漿清洗機。不僅針對于大學/科研機構(gòu)、工廠研發(fā)的實驗室型和工廠批量處理裝置，我們生產(chǎn)的plasma電漿清洗機具有多種規(guī)格、多種配置功能、性能及穩(wěn)定性強且操作方便的特點。

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