超純度的表面清潔

在工業生產過程中對電子元件、光學部件、機械零件、高分子材料等表面的超純度清洗，以消除極微小污垢顆粒，常常是一道非常關鍵的工藝。

傳統的清洗方式大多為濕法清洗，隨著現代高科技的不斷發展這種清洗方式已暴露出其致命的缺陷，即清洗干燥以后的清洗劑殘余和微小顆粒會附著在表面，已經不能滿足現代高科技工藝的需求。

由于氣體對微小縫隙的滲透力遠遠大于液體，對于復雜形態的物體同樣可以得到徹底清洗的效果。

等離子清晰過程中起決定性的因素是無論常壓狀態，還是真空狀態，即使在室溫的條件下，等離子體都會和有機污染物產生反應，分解成水和二氧化碳等分子，并具有良好的揮發性。