高精度的表面刻蝕 

幾乎所有種類的有機(jī)材料都可以被等離子蝕刻。

蝕刻效果是基于相同的化學(xué)反應(yīng)的清洗效果。

通過正確的選擇氣體的組成和比例，采用適當(dāng)?shù)募ぐl(fā)頻率，調(diào)整不同的功率、真空度、處理時(shí)間等可以達(dá)到很好的處理效果。 

除了氧氣可使用其他氣體增加蝕刻率，大多數(shù)情況下可以采用四氟化碳。

在此過程中四氟化碳產(chǎn)生的自由基超過氧氣等離子體的活性。

然而四氟化碳的比例達(dá)到一定的臨界點(diǎn)，活性會(huì)逐漸下降，同時(shí)他們的反應(yīng)氣體必須配上適當(dāng)?shù)倪^濾器來管控。 

對(duì)于蝕刻量較大的工件可以采取濕式化學(xué)蝕刻和低溫等離子體干式蝕刻相結(jié)合的方法，使得處理效果更加不錯(cuò)。